| 发明名称 | 感光化射线性或感放射线性树脂组合物及使用其的光阻膜及图案形成方法 | ||
| 摘要 | 一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含(P)具有由下式(1)表示的重复单元的树脂；一种使用所述组合物的光阻膜；以及一种图案形成方法。<img file="dda00001939359900011.GIF" wi="559" he="461" /> | ||
| 申请公布号 | CN102834774A | 申请公布日期 | 2012.12.19 |
| 申请号 | CN201180007408.6 | 申请日期 | 2011.01.27 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 稻崎毅;伊藤孝之;土村智孝;八尾忠辉;高桥孝太郎 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01)I;C08F8/00(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/039(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，包含(P)树脂，所述(P)树脂具有由下式(1)表示的重复单元：<img file="FDA00001939359700011.GIF" wi="586" he="486" />其中R<sup>1</sup>至R<sup>3</sup>各自独立地表示氢原子或单价取代基，L<sup>1</sup>表示亚芳基，M<sup>1</sup>表示亚烷基、亚环烷基、亚烯基、-O-、-S-或包含两个或两个以上这些成员的组合的基团，X表示含有多个芳族环的基团，且所述多个芳族环经缩合而形成多环结构或经由单键而相互连接。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||