| 发明名称 | 微光刻投射曝光设备 | ||
| 摘要 | 一种微光刻投射曝光设备(10)，包括产生投射光的主照明系统(12)、投射物镜(20；120)和校正光学系统。校正光学系统包括副照明系统(30；130)，其在基准表面(48；148)中产生校正光的强度分布；和校正元件(32；132)，其包括加热材料并布置在与该基准表面(48；148)至少大体上光学共轭的平面(38；174)中，以使校正光和投射光在它们打到校正元件(32；132)之前经过包含在投射物镜(20；120)中的至少一个透镜。校正光和投射光两者经过的所有透镜(34；L1至L5)都由透镜材料制成，透镜材料相比包含在校正元件内的加热材料对校正光具有更低的吸收系数。 | ||
| 申请公布号 | CN101821678B | 申请公布日期 | 2012.12.19 |
| 申请号 | CN200880110591.0 | 申请日期 | 2008.09.29 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 奥雷利安·多多克;萨沙·布莱迪斯特尔;奥拉夫·康拉迪;阿里夫·卡齐 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种微光刻投射曝光设备(10)，包括：a)主照明系统(12)，在掩模平面(36；136)中产生投射光的强度分布；b)投射物镜(20；120)；和c)校正光学系统，包括‑副照明系统(30，30’，30”，30”’)，在基准表面(48；148)中产生校正光的强度分布；和‑校正元件(32；132)，包括加热材料并布置在与所述基准表面(48；148)至少基本光学共轭的平面(38；174)中，以使所述校正光和所述投射光在打到所述校正元件(32；132)上之前经过包含在投射物镜(20；120)中的至少一个透镜(34；L1至L5)，其中所述校正光和所述投射光两者都经过的所述至少一个透镜(34；L1至L5)由透镜材料制成，所述透镜材料相比包含在所述校正元件(32；132)内的加热材料对所述校正光具有更低的吸收系数，并且所述基准表面(48；148)中的所述校正光的强度分布成像到所述校正元件(32；132)上。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||