| 发明名称 | 彩膜基板、阵列基板、液晶显示装置及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种彩膜基板、阵列基板、液晶显示装置及其制作方法，所述彩膜基板包括位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜；所述阵列基板包括位于所述第二基片和绝缘层之间的第二偏光膜；所述液晶显示装置包括所述彩膜基板和/或所述阵列基板。本发明通过将偏光作用的偏光膜制作在彩膜基板或阵列基板内部，克服了现有的液晶显示装置中采用粘贴于彩膜基板或阵列基板外表面的偏光片时，偏光片容易磨损，以及偏光片与彩膜基板或阵列基板外表面之间容易夹杂气泡和灰尘等问题。 | ||
| 申请公布号 | CN102830534A | 申请公布日期 | 2012.12.19 |
| 申请号 | CN201210303264.5 | 申请日期 | 2012.08.23 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 杜玙璠;宋勇志;马国靖 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种彩膜基板，包括第一基片、色阻层、平坦层和第一取向层，其特征在于，还包括：位于所述第一基片和平坦层之间的第一偏光膜。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||