发明名称 |
一种光刻胶清洗剂组合物 |
摘要 |
本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物,包含醇胺类化合物、水溶性极性有机溶剂和水,其中还包含选自环己六醇磷酸酯和环己六醇磷酸盐中的一种或几种。本发明的清洗剂组合物可以有效除去半导体晶片上的光刻胶、刻蚀或灰化后的光刻胶残留物或其它残留物,同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有很弱的腐蚀性,在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 |
申请公布号 |
CN101614970B |
申请公布日期 |
2012.12.19 |
申请号 |
CN200810039756.1 |
申请日期 |
2008.06.27 |
申请人 |
安集微电子(上海)有限公司 |
发明人 |
史永涛;彭洪修;曹惠英 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
代理机构 |
上海翰鸿律师事务所 31246 |
代理人 |
李佳铭 |
主权项 |
一种光刻胶清洗剂组合物,包含醇胺、水溶性极性有机溶剂和水,其特征在于,还含有选自环己六醇磷酸酯和环己六醇磷酸盐中的一种或几种,其中,所述的环己六醇磷酸酯和/或环己六醇磷酸盐的含量为0.01~30wt%,所述的醇胺的含量为0.1~50wt%,所述的水溶性极性有机溶剂的含量为1~95wt%,所述的水的含量为1~95wt%;其中,所述的水溶性极性有机溶剂选自亚砜、砜、酰胺、咪唑烷酮和烷基二醇单烷基醚中的一种或多种。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 |