发明名称 光学叠堆
摘要 本发明公开了光学叠堆。所述光学叠堆包括光重新定向膜,所述光重新定向膜包括具有多个单元分立结构的第一结构化主表面。所述光学叠堆还包括设置在所述导光膜上的光学粘合剂层。所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分穿入所述光学粘合剂层。所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分未穿入所述光学粘合剂层。所述光重新定向膜和所述光学粘合剂层之间的剥离强度大于约30克/英寸。所述光学叠堆的平均有效透射率不小于具有相同构造但不同的是单元分立结构均未穿入所述光学粘合剂层的光学叠堆的平均有效透射率或小于程度不超过约10%。
申请公布号 CN102834744A 申请公布日期 2012.12.19
申请号 CN201180018542.6 申请日期 2011.04.11
申请人 3M创新有限公司 发明人 加里·T·博伊德;威廉·F·埃德蒙兹;维维安·W·琼斯;基思·M·科奇克;特里·D·彭;约翰·F·范德洛弗斯科三世
分类号 G02B5/04(2006.01)I;G02F1/13357(2006.01)I;G02B6/00(2006.01)I 主分类号 G02B5/04(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 顾红霞;彭会
主权项 一种光学叠堆,包括:光重新定向膜,所述光重新定向膜包括具有多个单元分立结构的第一结构化主表面;和光学粘合剂层,所述光学粘合剂层设置在所述导光膜上,所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分穿入所述光学粘合剂层,所述多个单元分立结构中的至少一些单元分立结构的至少多个部分未穿入所述光学粘合剂层,所述光重新定向膜和所述光学粘合剂层之间的剥离强度大于约30克/英寸,所述光学叠堆的平均有效透射率不小于具有相同构造但不同的是单元分立结构均未穿入光学粘合剂层的光学叠堆的平均有效透射率或小于程度不超过约4%。
地址 美国明尼苏达州