STRIPPER COMPOSITION FOR PHOTORESIST

摘要

본 발명은 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유기 아민 화합물, 비점이 적어도 150℃인 극성용매 및 SAM(Self Assembly Monolayer)을 형성하기 위한 화합물을 포함하는 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것이다.