发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN PRECURSOR COMPOSITION
摘要 <p>본 발명은, 노광 후 방치 안정성이 우수한 알칼리 현상 가능한 포지티브형의 감광성 수지 전구체 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 (a)일반식(1)으로 나타내어지는 구조 단위를 포함하는 폴리머, (b)2종 이상의 광산 발생제, (c)일반식(2)으로 나타내어진 요소계 유기기를 함유하는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 전구체 조성물이다.(식 중, R은 2개 이상의 탄소원자를 갖는 2가부터 8가의 유기기, R는 2개 이상의 탄소원자를 갖는 2가부터 6가의 유기기를 나타내고; n은 1O부터 1OOOOO까지의 범위, p, q는 O부터 4까지의 정수를 나타낸다. 단 p+q>0이다.)(식 중, R는 탄소수 1부터 20까지의 알킬기를 나타낸다.)</p>
申请公布号 KR101212534(B1) 申请公布日期 2012.12.14
申请号 KR20110048686 申请日期 2011.05.23
申请人 发明人
分类号 G03F7/022;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/039;G03F7/075 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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