| 摘要 |
본 발명은 입체 미세구조물 제조방법에 관한 것으로, 정합액이 마스크와 포토레지스트층 사이에 배치되는데, 상기 마스크와 포토레지스트층에 대해 상대적인 스캔과 조사(照射) 공정을 동시에 수행하여, 그레이레벨 조사선량(照射線量)의 효과가 달성될 수 있도록 한다. 이를 통해 상기 정합액이 회절 오류를 감소시키도록 하고, 이에 따라 마스크와 포토레지스트층 사이의 갭이 더 허용될 수 있도록 한다; 부가하여, 정합액은 또한 마스크와 포토레지스트층에 대한 상대적인 스캔을 위한 윤활제로서 작용할 수 있는데, 원할한 스캐닝(smooth scanning)이 이루어질 수 있도록 하고, 이에 따라 고정밀 및 대영역 입체 포토레지스트 미세구조물을 제조할 수 있게 된다. |
