| 摘要 |
<p>본 발명은 포토레지스트 제거방법 및 이를 이용한 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 의한 포토레지스트 제거방법은 기판 상에 도전막 및 희생 비정질막을 형성하는 단계와, 상기 희생 비정질막 상에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 희생 비정질막 및 도전막을 식각하는 단계와, XeCl을 이용한 엑시머(Excimer)레이저를 이용하여 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계와, 상기 희생 비정질막을 제거하는 단계를 포함한다.</p> |
