摘要 |
Ein Verfahren zum Ausbilden einer verdickten Resiststruktur, umfassend: Ausbilden einer Resiststruktur; Aufbringen eines Resiststrukturverdickungsmaterials über eine Oberfläche der Resiststruktur; Erwärmen des Resiststrukturverdickungsmaterials, um die Resiststruktur zu verdicken, gefolgt von Entwicklung; und Erwärmen der Resiststruktur, die verdickt worden ist, wobei das Resiststrukturverdickungsmaterial ein Harz enthält und eine Verbindung, die durch die folgende allgemeine Formel (1) repräsentiert wird:wobei X eine funktionelle Gruppe ist, die durch die folgende Strukturformel (1) repräsentiert wird, Y wenigstens eine von Hydroxylgruppe, Aminogruppe, mit einer Alkylgruppe substituierte Aminogruppe, Alkoxygruppe, Alkoxycarbonylgruppe und Alkylgruppe ist, m eine ganze Zahl von 1 oder größer ist, und n eine ganze Zahl von 0 oder größer istwobei R1 und R2 identisch oder verschieden sind und jeder ein Wasserstoffatom oder eine Alkylcarbonylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe oder eine Alkylgruppe ist, Z wenigstens eine von Hydroxylgruppe, Aminogruppe, mit einer Alkylgruppe substituierte Aminogruppe und Alkoxygruppe ist; und wobei das...
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