一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置

摘要

本实用新型涉及一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，属于磁控溅射技术领域，解决连续磁控溅射镀膜装置中阴极装置的磁体极性的调整问题。本实用新型用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，包括真空室及阴极靶，该阴极靶的靶托上装有靶材、水冷背板，其主要技术特征是阴极靶上装有多套磁体，每套磁体均由外环电磁体和中间电磁体构成，该电磁体与直流电源连接。本实用新型可以控制相邻阴极的磁极极性，配合膜层组合的需求以提高膜层质量，通过直流电源控制励磁线圈电流的大小，调节磁体表面磁场的强度和分布。

主权项

一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，包括真空室及阴极靶，该阴极靶的靶托上装有靶材、水冷背板，其特征在于所述阴极靶上装有多套磁体，每套磁体均由外环电磁体和中间电磁体构成，该电磁体与直流电源连接。