发明名称 真空镀膜用的离子轰击结构
摘要 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及真空镀膜用的离子轰击结构,其包括有轰击棒,轰击棒后端与电极连接,电极与电缆电性连接,电极通过绝缘套固定安装在相应的载体;所述轰击棒与电极同轴设置,轰击棒与电极之间通过螺纹连接。电极与电缆连接的一端设有螺纹段,螺纹段连接的螺母固定电缆与电极的连接。本实用新型设计的真空镀膜用的离子轰击结构,可实现轰击棒通电配合氩气产生放电获得等离子,并以等离子撞击工件表面,使工件表面的污垢离化,从而达到清洁的功效,结构简单,科学合理,投资成本低,体积小巧,安装、使用方便,大大提升工件表面清洁的效率和质量,从而提升真空镀膜的功效和品质。
申请公布号 CN202595253U 申请公布日期 2012.12.12
申请号 CN201220130244.8 申请日期 2012.03.31
申请人 广东友通工业有限公司 发明人 赵铭
分类号 C23C14/32(2006.01)I 主分类号 C23C14/32(2006.01)I
代理机构 东莞市创益专利事务所 44249 代理人 李卫平
主权项 真空镀膜用的离子轰击结构,其特征在于:包括有轰击棒(1),轰击棒(1)后端与电极(2)连接,电极(2)与电缆电性连接,电极(2)通过绝缘套(4)固定安装在相应的载体(3)。
地址 523000 广东省东莞市企石镇下截村深坑工业区东部快速路边