发明名称 灰阶掩膜版及利用其形成的柱状隔垫物
摘要 本发明公开了一种灰阶掩膜版及利用其形成的柱状隔垫物,所述灰阶掩膜版包括透明衬底和形成于其上的遮光层,所述遮光层包括部分曝光区,所述部分曝光区包括至少一个环形狭缝。利用所述灰阶掩膜版形成的柱状隔垫物,部分曝光区下形成的柱状隔垫物的上表面包括与环形狭缝相对应的环形突起和凹槽。本发明的灰阶掩膜版的成本比传统的半透膜掩膜版低,利用其形成的柱状隔垫物有利于防止薄膜晶体管阵列基板和彩色滤光片基板的相对位移,从而改善液晶显示装置的画质,同时为液晶滴入量提供范围较大的上下限区间。
申请公布号 CN102819180A 申请公布日期 2012.12.12
申请号 CN201210268706.7 申请日期 2012.07.30
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 发明人 吴洪江;黄常刚;黎敏
分类号 G03F1/32(2012.01)I;G02F1/1339(2006.01)I 主分类号 G03F1/32(2012.01)I
代理机构 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人 李娟
主权项 一种灰阶掩膜版,包括透明衬底和形成于其上的遮光层,其特征在于,所述遮光层包括部分曝光区,所述部分曝光区包括至少一个环形狭缝。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号