| 发明名称 | 反应槽底部监测装置及反应槽 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种反应槽底部监测装置，用于监测反应槽的槽体的底部是否具有晶圆碎片，其特征在于，包括探测器和控制单元，所述探测器和所述控制单元连接，所述探测器设置于所述槽体的底部。本实用新型提供的反应槽底部监测装置及反应槽，通过设置探测器和控制单元，所述探测器和所述控制单元连接，所述探测器设置于所述槽体的底部，采用探测器可以探测到位于槽体的底部的晶圆碎片，并将探测信息传递给控制器，使得操作人员及时知晓槽体的底部存在晶圆碎片，以便及时清除晶圆碎片，防止晶圆碎片对后续批次的晶圆生产带来不良影响，确保生产的稳定性和产品良率。 | ||
| 申请公布号 | CN202601582U | 申请公布日期 | 2012.12.12 |
| 申请号 | CN201220263118.X | 申请日期 | 2012.06.05 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;武汉新芯集成电路制造有限公司 | 发明人 | 吴良辉;胡婷芳 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种反应槽底部监测装置，用于监测反应槽的槽体的底部是否具有晶圆碎片，其特征在于，包括探测器和控制单元，所述探测器和所述控制单元连接，所述探测器设置于所述槽体的底部。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||