| 发明名称 | 基于模型的校验光学邻近修正的方法 | ||
| 摘要 | 一种基于模型的校验光学邻近修正的方法，包括如下步骤：提供经过光学邻近修正后的待曝光图形；对待曝光图形进行校验，找出弱点；以待曝光图形上的弱点为中心，选定扩展区域；对弱点进行光学邻近修正；对扩展区域内的待曝光图形进行校验，若扩展区域内无弱点，则结束校验。本发明在校验光学邻近修正的过程中，仅需校验扩展区域内的待曝光图形，节省了校验光学邻近修正所用的时间。 | ||
| 申请公布号 | CN101571669B | 申请公布日期 | 2012.12.12 |
| 申请号 | CN200810105305.3 | 申请日期 | 2008.04.28 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 发明人 | 刘庆炜 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种基于模型的校验光学邻近修正的方法，其特征在于，包括如下步骤：提供经过光学邻近修正后的待曝光图形；对待曝光图形进行校验，找出弱点；以待曝光图形上的弱点为中心，选定扩展区域；对弱点进行光学邻近修正；对扩展区域内的待曝光图形进行校验，若扩展区域内无弱点，则结束校验。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道18号 | ||