发明名称 掩膜片、使用该掩膜片的叠层片及照光装置
摘要 提供掩膜片、使用该掩膜片的叠层片及照光装置。照光装置(600)以第二遮光层(3)与导光片(8)相对置的方式将掩膜片(200)叠层在导光片上,掩膜片配置为覆盖光源(10)的上方,导光片的端面面向光源(10)而配置。掩膜片在含有能够反射光的颜料且具有透光性的基体材料(1)的一个面上叠层半透层(7)并具有第一遮光层(2),在另一个面上具有第二遮光层。在第一遮光层上形成露出半透层的第一露出部(4),在第二遮光层(3)上在与第一露出部对应的部位形成有露出基体材料的第二露出部(5),在与光源相对置的部位形成有露出基体材料的第三露出部(6)。光源发出的通过了导光片的光从第二露出部入射并从第一露出部射出。
申请公布号 CN202600624U 申请公布日期 2012.12.12
申请号 CN201220165983.0 申请日期 2012.04.18
申请人 阿尔卑斯电气株式会社 发明人 杉浦琢郎;石森五音
分类号 G06F3/02(2006.01)I;H01H13/83(2006.01)I;F21V8/00(2006.01)I 主分类号 G06F3/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 夏斌;陈萍
主权项 一种掩膜片,面向外部的光源而配设,能够透光来自所述光源的光,其特征在于,具有由含有能够反射光的颜料的材料形成、具备透光性的基体材料,在所述基体材料的一个面上形成有深暗色的第一遮光层,在所述基体材料的另一个面上形成有深暗色的第二遮光层,在所述第一遮光层上形成有露出所述基体材料的第一露出部,在所述第二遮光层上,在与所述第一露出部对应的部位形成有露出所述基体材料的第二露出部,并且在与所述光源相对置的部位形成有露出所述基体材料的第三露出部。
地址 日本东京都