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发明名称
OXIDE MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
摘要
<p>본 발명은 인듐(In), 주석(Sn) 및 금속 원소 M을 함유하고, 일메나이트 구조 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 산화물 재료; 이 산화물 재료로 이루어지는 스퍼터링 타겟; 그것을 이용하여 성막한 투명 도전막; 및 이 투명 도전막으로 이루어지는 투명 전극에 관한 것이다.</p>
申请公布号
KR101211747(B1)
申请公布日期
2012.12.12
申请号
KR20087006862
申请日期
2006.09.15
申请人
发明人
分类号
C04B35/00;C23C14/34
主分类号
C04B35/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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