| 发明名称 | 一种清洗液的应用 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种含有碳硫双键的化合物和水的清洗液在清洗化学机械抛光液供料系统中的应用，其可有效加速金属污染物的溶解，解决了化学机械抛光液供料系统中金属污染物的残留问题，提高了化学机械抛光质量。 | ||
| 申请公布号 | CN102816655A | 申请公布日期 | 2012.12.12 |
| 申请号 | CN201110152808.8 | 申请日期 | 2011.06.08 |
| 申请人 | 安集微电子科技(上海)有限公司 | 发明人 | 何华锋;王晨 |
| 分类号 | C11D7/34(2006.01)I;C11D7/10(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种清洗液在用于清洗化学机械抛光液供料系统中的应用，其中，所述清洗液包括：含有碳硫双键的化合物和水。 | ||
| 地址 | 201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层 | ||