溅射装置

摘要

本发明提供一种低成本的溅射装置，其可促进从靶上飞溅的原子的离子化以进行稳定的自溅射。其包括：与在真空腔(2)内应处理的基板W相对配置的靶(3)，在靶的溅射面的前方形成磁场的磁铁组合件(4)，以及向靶施加负的直流电位的DC电源(5)。在靶的溅射面的背面一侧的区域设置第一线圈(6)，所述第一线圈电连接在所述第一电源和所述靶的输出之间；当由所述溅射电源向所述靶施加负电位时，所述第一线圈被通电并在溅射面的前方产生磁场。

主权项

一种溅射装置，其特征在于包括：与在真空腔内应处理的基板相对配置的靶，在所述靶的溅射面的前方形成磁场的磁铁组合件，以及向所述靶施加负直流电位的第一电源；在所述靶的溅射面的背面一侧设置第一线圈，所述第一线圈电连接在所述第一电源和所述靶的输出之间；当由所述第一电源向所述靶施加负电位时，所述第一线圈被通电并在溅射面的前方产生磁场；所述溅射装置还包括：电极，其设置在所述真空腔内，在溅射面前方所述靶与所述基板之间围成的空间；以及第二电源，其在所述电极上施加正直流电位；沿所述真空腔的侧壁设置第二线圈，所述第二线圈电连接在所述第二电源和所述电极的输出之间；当由所述第二电源向所述电极施加正电位时，所述第二线圈被通电并在溅射面的前方产生磁场。