发明名称 微细构造体及其制造方法、光电场增强器件
摘要 一种微细构造体及其制造方法,以及使用该微细构造体的光电场增强器件。微细构造体可通过简单的工艺来制造。微细构造体(1)具备电介质基材(11),在导电体(13)上面形成的俯视为大致同一形状的许多微细孔(12)在电介质基材表面(11s)上开口而大致规则排列,在该电介质基材(11)上固定了多个微细金属体(20),微细金属体(20)包括填充在1个以上的微细孔(12)内的填充部(21)和在微细孔(12)上面从电介质基材表面(11s)突出而形成的,具有比填充部(21)的直径大,而且能感应局部等离子体振子的大小的直径的突出部(22)。多个微细金属体(20)具备其中填充了填充部(21)的微细孔(12)的数不同的微细金属体(20)。
申请公布号 CN101319994B 申请公布日期 2012.12.12
申请号 CN200810125544.5 申请日期 2008.06.10
申请人 富士胶片株式会社 发明人 纳谷昌之
分类号 G01N21/65(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;H01M14/00(2006.01)I;H01L31/04(2006.01)I 主分类号 G01N21/65(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 陆锦华;谢丽娜
主权项 一种微细构造体,其特征在于,包括:具有在基材表面上开口的许多微细孔的电介质基材;以及由填充在该电介质基材的1个以上的上述微细孔中的填充部和在该填充部上面从上述基材表面突出而形成的、具有比该填充部的直径大而且能感应局部等离子体振子的大小的直径的突出部构成的多个微细金属体,上述多个微细金属体包含其中填充了上述填充部的上述微细孔的数互相不同的多个上述微细金属体,所述突出部的直径是指所述突出部的最大直径。
地址 日本东京