发明名称 |
多色调光掩模、光掩模坯体、多色调光掩模的制造方法和图案转印方法 |
摘要 |
本发明涉及多色调光掩模及其制造方法,所述多色调光掩模在透明基板上形成有规定的转印图案,所述规定的转印图案包含遮光部、透光部和半透光部。遮光部是在透明基板上依次层积具有导电性的蚀刻平衡膜、半透光膜和遮光膜而成,半透光部是在透明基板上依次层积蚀刻平衡膜和半透光膜而成,透光部是透明基板露出而成的。 |
申请公布号 |
CN101989043B |
申请公布日期 |
2012.12.12 |
申请号 |
CN201010243544.2 |
申请日期 |
2010.07.30 |
申请人 |
HOYA株式会社 |
发明人 |
吉川裕;福元友德 |
分类号 |
G03F1/32(2012.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/32(2012.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
丁香兰;张志楠 |
主权项 |
一种多色调光掩模,其是在透明基板上形成有规定的转印图案的多色调光掩模,所述规定的转印图案包含遮光部、透光部和半透光部,其特征在于,所述遮光部是在所述透明基板上依次层积具有导电性的蚀刻平衡膜、半透光膜和遮光膜而成的,所述半透光部是在所述透明基板上依次层积所述蚀刻平衡膜和所述半透光膜而成的,所述透光部是所述透明基板露出而成的。 |
地址 |
日本东京都 |