光掩模单元及其制造方法

摘要

本发明提供了一种适宜于使用EUV曝光技术，在感光膜上形成32nm或其以下的微小图案的光刻用光掩模，以提供能确实地防止光掩模的平坦度发生恶化的光掩模单元为目的。本发明的光掩模单元1为：防尘薄膜6、在其一个表面粘贴有防尘薄膜6的侧部近旁区域的防尘薄膜组件框架7、光掩模2、其一个表面固定有光掩模2及防尘薄膜组件框架7的台子3，防尘薄膜组件框架7在比固定有光掩模2的台子3的范围还要靠外的侧被固定于台子3上。

主权项

一种光掩模单元，包括:防尘薄膜；防尘薄膜组件框架，其形成框架状，其一个端面上粘贴所述防尘薄膜的侧部近旁区域；光掩模；台子，在其一个表面上固定有所述光掩模及所述防尘薄膜组件框架，其特征在于所述防尘薄膜组件框架，在比固定所述光掩模的台子的范围还要靠外侧被固定于所述台子上。