| 发明名称 | 制造磁记录介质用玻璃基板的方法和磁记录介质用玻璃基板 | ||
| 摘要 | 本发明涉及制造磁记录介质用玻璃基板的方法和磁记录介质用玻璃基板。所述制造磁记录介质用玻璃基板的方法包括：将玻璃板加工成为具有圆盘形状且在中心部具有圆孔的玻璃基板的成形步骤；将玻璃基板的主表面抛光的抛光步骤；和清洗玻璃基板的清洗步骤，并且所述玻璃基板是含有杨氏模量为68GPa以上且比模量为27MNm/kg以上的铝硅酸盐玻璃的基板。然后，所述抛光步骤包括使用抛光液和抛光垫将玻璃基板的主表面抛光的精抛光步骤，所述抛光液含有初级粒子的平均粒径为1至80nm的二氧化硅粒子且pH为3.5至5.5，并且导电率为7mS/cm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN102820041A | 申请公布日期 | 2012.12.12 |
| 申请号 | CN201210189550.3 | 申请日期 | 2012.06.08 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 志田德仁;中岛哲也;田村昌彦 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01)I;G11B5/62(2006.01)I;C03C3/083(2006.01)I;C03C3/085(2006.01)I;C03C3/087(2006.01)I;C03C3/091(2006.01)I;C03C15/00(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/84(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 杨海荣;穆德骏 |
| 主权项 | 制造磁记录介质用玻璃基板的方法，所述方法包括：将玻璃板加工成为具有圆盘形状且在中心部具有圆孔的玻璃基板的成形步骤；将玻璃基板的主表面抛光的抛光步骤；和清洗玻璃基板的清洗步骤，其中所述玻璃基板是含有杨氏模量为68GPa以上且比模量为27MNm/kg以上的铝硅酸盐玻璃的基板；并且所述抛光步骤包括使用抛光液和抛光垫将玻璃基板的主表面抛光的精抛光步骤，所述抛光液含有初级粒子的平均粒径为1至80nm的二氧化硅粒子且pH为3.5至5.5，并且导电率为7mS/cm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||