一种磁控溅射旋转靶

摘要

本实用新型涉及一种磁控溅射旋转靶，属于磁控溅射镀膜技术领域，解决磁控溅射镀制薄膜电池膜层的厚度一致性等技术问题，磁控溅射旋转靶包括靶筒、靶轴、靶材和磁体，靶材装在靶筒的外壁上，磁体位于靶筒内部，其特征在于所述靶筒的两端设有连接构件，该连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成，端头由连接夹套安装在靶筒的两端，靶轴支承座安装在端头内，靶轴的一端装有磁体移动机构，另一端装有靶材旋转机构。积极效果是通过调节靶电源以及旋转靶上的磁铁和靶材之间距离，调整靶材表面的磁场，保证所镀膜层厚度的均匀性和致密度的一致性。

主权项

一种磁控溅射旋转靶，包括靶筒、靶轴、靶材和磁体，靶材装在靶筒的外壁上，磁体位于靶筒内部，其特征在于所述靶筒的两端设有连接构件，该连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成，端头由连接夹套安装在靶筒的两端，靶轴支承座安装在端头内，靶轴的一端装有磁体移动机构，另一端装有靶材旋转机构。