发明名称 |
用于微光刻的投射物镜 |
摘要 |
一种用于微光刻的投射物镜(7)被用于将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)。所述投射物镜(7)包括至少六个反射镜(M1至M6),其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面,投射物镜(7)的总长度(T)与物像位移(dOIS)的比小于12。根据本发明的另一方面,像平面(9)是物平面(5)的下游的投射物镜(7)的第一个场平面。根据本发明的另一方面,投射物镜具有多个反射镜(M1至M6),其中总长度(T)与物像位移(dOIS)之间的比小于2。 |
申请公布号 |
CN102819196A |
申请公布日期 |
2012.12.12 |
申请号 |
CN201210286762.3 |
申请日期 |
2009.02.28 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
发明人 |
约翰尼斯.泽尔纳;汉斯-于尔根.曼;马丁.恩德雷斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
邱军 |
主权项 |
光学系统,包括:‑用于微光刻的照明光学系统(6),用于引导由光源(2)发射的照明光(3),以及用于照明物场(4);‑投射光学系统(16),用于将所述物场(4)成像为像场(8);‑其中,将所述照明光学系统(6)设计为使得所述照明光(3)在所述光源(2)和所述物场(4)之间具有中间焦点(23),其特征在于所述投射光学系统(16)的总长度(T)与中间焦点像位移(D)之间的比小于5。 |
地址 |
德国上科亨 |