| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种光刻设备，其包括能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列具有：配置成发射所述束的自发射式对比度装置(906)；和配置成将所述束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还可以具有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分。所述光刻设备被构造以通过使用隔室(936)减小围绕光学装置列的移动部分的介质的密度变化对所述束的光学效应，所述隔室(936)提供围绕所述移动部分的基本上封闭的环境。 | ||
| 申请公布号 | CN102822749A | 申请公布日期 | 2012.12.12 |
| 申请号 | CN201180017276.5 | 申请日期 | 2011.02.02 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | 埃尔温·范茨韦特;彼得·德亚格尔;约翰内斯·昂伍李;埃里克·弗瑞特茨 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张启程 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括：光学装置列，能够将束投影到衬底的目标部分上，所述光学装置列具有：自发射式对比度装置，配置成发射所述束；投影系统，配置成将所述束投影到目标部分上；和致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的至少一部分，其中，所述光刻设备被构造以减小围绕光学装置列的移动部分的介质的密度变化对所述束的光学效应。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||