发明名称 半导体装置、粘合剂和粘合膜
摘要 本发明以提高半导体装置装配后的耐温度循环性,同时提高耐吸湿回流性为目的,提供一种粘合剂、使用该粘合剂的双面粘合膜和半导体装置,所说的粘合剂是在把半导体芯片装载到有机系支持基板上时使用的粘合剂,其用动态粘弹性测定装置测定的25℃的储存弹性模量为10~2000MPa且在260℃时的储存弹性模量为3~50MPa。
申请公布号 CN1923939B 申请公布日期 2012.12.12
申请号 CN200610099810.2 申请日期 1997.10.08
申请人 日立化成工业株式会社 发明人 山本和德;岛田靖;神代恭;稻田祯一;栗谷弘之;金田爱三;富山健男;野村好弘;细川羊一;桐原博;景山晃
分类号 C09J163/00(2006.01)I;C09J7/00(2006.01)I;H01L21/58(2006.01)I 主分类号 C09J163/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 王永刚
主权项 一种粘合剂,被用在半导体装置的制造中,其特征在于:上述粘合剂是热固化性的粘合剂,其中,相对于2官能团以上且分子量不足5000的环氧树脂以及环氧树脂固化剂100重量份,含有:含有2~6重量%的丙烯酸缩水甘油酯或者甲基丙烯酸缩水甘油酯、玻璃化转变温度为‑10℃以上、且重均分子量为80万以上的含环氧基丙烯酸系共聚物100~300重量份;以及环氧树脂固化促进剂0.1~5重量份,使用动态粘弹性测定装置进行测定时的粘合剂固化物的储存弹性模量在25℃下为10~2000MPa,在260℃下为3~50Mpa。
地址 日本东京