发明名称 铜回收装置
摘要 根据一实施方案,铜回收装置(1)包括沉淀罐(2)、混合罐(6)、助滤剂加料器(5)、包括过滤器(33)的固液分离器(3)、清洗水供给管线(L10、L11)、清洗水排放管线(L4)、分离罐(4)以及助滤剂返回管线(L5)。沉淀罐(2)构造为接收要处理的含铜离子水和碱以制备包含铜化合物的沉淀物的处理的水。固液分离器(3)构造为允许处理的水通过预涂层沉积于其上的过滤器(33)以从滤液分离保留在所述预涂层上的沉淀物。
申请公布号 CN102815779A 申请公布日期 2012.12.12
申请号 CN201210188712.1 申请日期 2012.06.08
申请人 株式会社东芝 发明人 深谷太郎;堤剑治;山崎厚;山梨伊知郎;野口博史;菊池靖崇;关秀司
分类号 C02F1/62(2006.01)I;C02F1/52(2006.01)I 主分类号 C02F1/62(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 过晓东
主权项 一种铜回收装置,其特征在于所述铜回收装置包括:沉淀罐,其构造为接收要处理的含铜离子水,并向要处理的水中添加碱,以制备包含铜化合物的沉淀物的处理的水;加热器,其构造为加热沉淀罐中的处理的水,以将处理的水中的至少一部分铜化合物转化为氧化铜;混合罐,其构造为将包含平均粒径为0.5‑20μm的磁性颗粒的助滤剂与分散介质混合,以制备悬浮液;助滤剂加料器,其构造为向混合罐提供助滤剂;包括过滤器的固液分离器,所述固液分离器构造为接收来自混合罐的悬浮液,使得助滤剂的预涂层沉积在过滤器上,然后接收来自沉淀罐的处理的水,从而允许处理的水通过其上沉积预涂层的过滤器,以使保留在所述预涂层上的沉淀物与滤液分离;清洗水供给管线,其构造为向其上沉积预涂层的过滤器提供水,所述预涂层具有保留在其上的沉淀物,以从过滤器除去沉淀物和助滤剂;清洗水排放管线,其构造为从固液分离器排放沉淀物和助滤剂以及由清洗水供给管线提供给过滤器的水;分离罐,其构造为接收从固液分离器排放的沉淀物、助滤剂和水,并且利用磁场使助滤剂与沉淀物和水分离;以及助滤剂返回管线,其构造为将分离罐中分离的助滤剂返回到助滤剂加料器。
地址 日本东京都
您可能感兴趣的专利