a plasma-gas distributor and plasma apparatus adopting the same

摘要

플라즈마 처리 장치에 관하여 기술된다. 개시된 플라즈마 처리 장치는 기판 전체적으로 플라즈마 영역과 기판 사이의 쉬스(sheath)의 왜곡을 감소시키는 구조를 갖추며 이로써 기판에 대한 고른 에칭을 유도한다. 또한 플라즈마 영역에 대한 플라즈마 가스의 고르게 공급/분포 시킬 수 있는 디스트리뷰터를 가진다.