发明名称 METHODS AND ARRANGEMENT FOR THE REDUCTION OF BYPRODUCT DEPOSITION IN A PLASMA PROCESSING SYSTEM
摘要 <p>플라즈마 처리 시스템에서, 플라즈마 처리 챔버의 플라즈마 챔버 표면들의 세트 상의 부산물의 퇴적물을 감소시키는 방법이 개시된다. 본 방법은 플라즈마 처리 챔버에 퇴적 배리어를 제공하는 단계를 포함하고, 이 퇴적 배리어는 플라즈마 처리 챔버의 플라즈마 발생 영역에 배치되도록 구성되어, 플라즈마 처리 챔버 내부에서 플라즈마가 스트라이킹될 때 생성되는 적어도 일부의 처리 부산물들이 퇴적 배리어에 부착되고, 플라즈마 처리 챔버 표면들의 세트 상의 부산물의 퇴적물을 감소시킨다.</p>
申请公布号 KR101209534(B1) 申请公布日期 2012.12.07
申请号 KR20077014360 申请日期 2005.12.16
申请人 发明人
分类号 H05H1/24 主分类号 H05H1/24
代理机构 代理人
主权项
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