| 摘要 |
<p>Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Formteile (22), wobei auf ein Substrat (10) eine erste, negative oder positive photosensitive Schicht (12) mit einer Schichtdicke (D1) aufgetragen wird und die erste photosensitive Schicht (12) bereichsweise mittels Licht einer geeigneten Wellenlänge belichtet wird; eine zweite, negative oder positive photosensitive Schicht (12') mit einer Schichtdicke (D2) auf die erste photosensitive Schicht (12) aufgetragen und bereichsweise mittels Licht einer geeigneten Wellenlänge belichtet wird, wobei die belichteten Bereiche (16') in der zweiten Schicht (12') gleich und/oder unterschiedlich zu den belichteten Bereichen (16) in der ersten Schicht (12) sind, wobei die erste und zweite photosensitive Schicht (12, 12') eine Suspension aus einem Negativ- oder Positiv-Photolack und darin suspendierten Feststoffpartikeln ist; optional die Schritte Auftragen und bereichsweises Belichten einer photosensitiven Schicht (12, 12') so oft wiederholt werden, bis eine vorbestimmte Höhe (H) erreicht wird, wobei die belichteten Bereiche (16, 16') der zumindest zwei photosensitiven Schichten...</p> |
