发明名称 SUBSTRATE HEATING APPARATUS AND SUBSTRATE HEATING METHOD
摘要 <p>본 발명은 대면적 기판의 가열 온도를 영역별로 조절할 수 있도록 한 기판 가열 장치 및 기판 가열 방법에 관한 것으로, 기판 가열 장치는 챔버; 상기 챔버로 로딩되는 적어도 하나의 기판을 지지하는 복수의 기판 지지 부재; 상기 복수의 기판 지지 부재에 지지된 상기 기판을 복수의 영역별로 가열하는 히터 모듈; 및 상기 기판의 온도가 상기 복수의 영역별로 조절되도록 상기 히터 모듈을 제어하는 히터 제어부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101209297(B1) 申请公布日期 2012.12.06
申请号 KR20110126355 申请日期 2011.11.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/02;H01L21/205;H01L21/3065;H01L31/18 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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