MOVEMENT OF AN OPTICAL ELEMENT IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

摘要

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie beinhaltend ein durch einen ersten und einen zweiten Aktuator aktuierbares optisches Element. Die Aktuatoren werden mittels Steuerungsintervallen derart gesteuert, dass zu jedem Zeitpunkt der Steuerung eine gemäß einem vorab wählbaren Parameter a vorgegebene Mindestauslenkbarkeit garantiert ist.