Verfahren zum Bilden einer Fensterschicht in einer Dünnschicht-Photovoltaikvorrichtung auf Cadmiumtelluridbasis

摘要

Allgemein bereitgestellt werden Verfahren zum Herstellen solcher Dünnschicht-Photovoltaikvorrichtungen mittels Sputtern einer gemischtphasigen Schicht von einem Target (z. B. mindestens enthaltend CdSOx, wobei x gleich 3 oder 4 ist) auf eine transparente leitende Oxidschicht (14) und zum Aufbringen einer Cadmiumtelluridschicht auf der gemischten Schicht. Die transparente leitende Oxidschicht (14) befindet sich auf einem Glassubstrat (12).