发明名称 Selektives Abtragen dünner Schichten mittels gepulster Laserstrahlung zur Dünnschichtstrukturierung
摘要 <p>Das selektive Abtragen dünner Schichten betrifft ein Verfahren zur Strukturierung von Dünnschichtsolarzellen auf Chalkopyrit-Basis mittels gepulster Laserstrahlung durch den Abtrag zuvor aufgebrachter Schichten. Die Erfindung betrifft eine Strukturierungsmethode, die nur geringe thermische Belastungen des zu strukturierenden Schichtsystems durch Laserbestrahlung zur Folge hat. Erfindungsgemäß wird die Strukturierung der dünnen Schichten dadurch erzielt, dass ein durch Wellenlänge, Pulsdauer und Energiedichteverteilung charakterisierter Laserstrahl auf die dem Dünnschichtsystem gegenüberliegende Seite des Substrates gerichtet wird und so der Abtrag von Schichten des Dünnschichtsystems erzielt wird. Ein bevorzugtes Anwendungsgebiet ist die Strukturierung von Dünnschichtsolarzellen auf flexiblem Träger.</p>
申请公布号 DE102011103481(A1) 申请公布日期 2012.12.06
申请号 DE201110103481 申请日期 2011.06.03
申请人 LEIBNIZ-INSTITUT FUER OBERFLAECHENMODIFIZIERUNG E.V.;SOLARION AG 发明人 BRAUN, ALEXANDER, DR.;SCHEIT, CHRISTIAN;RAGNOW, STEFFEN;ZIMMER, KLAUS;WEHRMANN, ANJA;EHRHARDT, MARTIN
分类号 H01L31/18 主分类号 H01L31/18
代理机构 代理人
主权项
地址