发明名称 一种计算多吸收层接触孔掩模衍射的方法
摘要 本发明提供一种计算多吸收层接触孔掩模衍射的方法,能快速计算光刻中多吸收层的各种类型接触孔掩模的衍射。步骤1.将掩模分解为N个区域,步骤2.将这(N-2)个二维光栅层的介电常数、介电常数倒数进行Fourier级数展开,利用Fourier系数得到这(N-2)个二维光栅层的Toeplitz矩阵;步骤3.由该掩模的C2v对称性,得到标准矩阵,然后求得每个对称操作的变换矩阵,最后求得各对称模式中电场的对称关系;步骤4.求解第(m,n)个衍射光级次的波矢量沿着切向、法向的分量;步骤5.根据对称性及科特罗Littrow条件,得到电场保留的谐波分量;步骤6.利用法向矢量方法得到耦合波方程;步骤7.求解透射场各级次幅值,并将四个模式合成得到最终的透射场各衍射级次的幅值;求解最终的透射场各衍射级次的衍射效率。
申请公布号 CN102809894A 申请公布日期 2012.12.05
申请号 CN201210292363.8 申请日期 2012.08.16
申请人 北京理工大学 发明人 李艳秋;杨亮
分类号 G03F1/32(2012.01)I 主分类号 G03F1/32(2012.01)I
代理机构 北京理工大学专利中心 11120 代理人 高燕燕
主权项 计算多吸收层接触孔掩模衍射的方法,其特征在于,具体步骤为:步骤1.将掩模分解为N个区域,其中N为正整数,N≥3,其中包含(N‑2)个二维光栅层步骤2.选择基本单元,将这(N‑2)个二维光栅层的介电常数、介电常数倒数进行Fourier级数展开,利用Fourier系数得到这(N‑2)个二维光栅层的Toeplitz矩阵;步骤3.由该掩模的C2v对称性,得到标准矩阵,然后求得每个对称操作的变换矩阵,最后求得各对称模式中电场的对称关系;步骤4.根据布洛开Floquet条件,求解第(m,n)个衍射光级次的波矢量沿着切向、法向的分量,其中m,n为(‑∞,+∞)之间的整数;步骤5.根据对称性及科特罗Littrow条件,得到电场保留的谐波分量;步骤6.利用法向矢量(Normal Vector,NV)方法得到耦合波方程;步骤7.首先由模式一对称性得到新的耦合波方程,并求解模式一中透射场各级次幅值;步骤8.根据步骤7求解模式二、模式三、模式四透射场的各个衍射级次的幅值;步骤9.将四个模式合成得到最终的透射场各衍射级次的幅值;步骤10.求解最终的透射场各衍射级次的衍射效率。
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