| 发明名称 | 腔室装置和具有该腔室装置的基片处理设备 | ||
| 摘要 | 一种腔室装置和具有该腔室装置的基片处理设备，所述腔室装置包括：腔室本体和加热器，所述腔室本体内限定有腔室，所述加热器可旋转地设在所述腔室内。根据本发明提供的腔室装置，在所述腔室内设置有可旋转的加热器，因此，腔室内的温度和等离子体的分布更加均匀进而提高了成膜的质量。 | ||
| 申请公布号 | CN102808164A | 申请公布日期 | 2012.12.05 |
| 申请号 | CN201110145450.6 | 申请日期 | 2011.05.31 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 刘红义 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人 | 宋合成 |
| 主权项 | 一种腔室装置，其特征在于，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有腔室；和加热器，所述加热器可旋转地设在所述腔室内。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||