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<p>리소그래피 장치는: 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템, 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체 - 상기 패터닝 디바이스는 패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위하여 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있음 - , 기판을 유지시키도록 구성된 기판 테이블, 및 상기 패터닝된 방사선 빔을 상기 기판의 타겟부 상으로 투영하도록 구성된 투영 시스템을 포함한다. 상기 리소그래피 장치는 상기 투영시스템의 광학 투영 전사 정보를 측정하기 위한 투영 전사 측정 장치를 더 포함한다. 상기 투영 전사 측정 장치는, 스캐닝 움직임 동안 측정 빔을 상기 투영 시스템 내로 지향시키기 위한 광학 디바이스, 스캐닝 움직임 동안 상기 투영 시스템을 통과한 상기 측정 빔을 검출하기 위한 검출기, 및 검출된 측정 빔으로부터 광학 투영 전사 정보를 결정하기 위한 측정 처리 디바이스를 포함한다. 상기 광학 디바이스 및 상기 검출기는 상기 투영 시스템의 상류 단부에 배치된다.</p> |
