发明名称 激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置
摘要 一种激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置,包括脉冲激光光刻系统和电化学沉积装置,激光光刻系统由脉冲激光模块、光路传输模块和三维移动模块依次顺序连接;脉冲激光模块由脉冲激光器和控制器组成。采用脉冲激光光刻技术对预先旋涂了光刻胶的金属材料表面进行光刻,然后浸入显影液中除去曝光的光刻胶,继而采用电化学沉积技术对材料表面进行复合镀层的可控电沉积,最后再清除未被曝光的光刻胶,在金属材料表面得到带有规则微观织构的表面复合镀层,实现表面摩擦学性能的最大化;复合镀层的结构、成分可控。应用范围广。结合激光光刻加工技术与电化学沉积技术,实现材料表面减摩抗磨性能的最大化。
申请公布号 CN202576612U 申请公布日期 2012.12.05
申请号 CN201220171657.0 申请日期 2012.04.23
申请人 中国矿业大学 发明人 杨海峰;刘磊;郝敬斌;朱华
分类号 C25D5/00(2006.01)I;C25D15/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 C25D5/00(2006.01)I
代理机构 江苏圣典律师事务所 32237 代理人 程化铭
主权项 一种激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置,其特征是:装置包括脉冲激光光刻系统和电化学沉积装置,所述的激光光刻系统由脉冲激光模块、光路传输模块和三维移动模块依次顺序连接;所述的脉冲激光模块由脉冲激光器和控制器组成,控制器与脉冲激光器连接,脉冲激光器输出到达全反镜;控制器的输出功率在零和最大功率范围内连续调节;脉冲激光器采用氟化氩,氟化氩产生的波长为193nm的紫外冷激光,重复频率50HZ,平均功率6W,脉宽17ns;所述的光路传输模块由全反镜、扩束镜、分束镜和光闸依次顺序连接,光闸的缴光束输出至三维平台;所述的电化学沉积装置主要由计算机、电化学工作站、阳电极、阴电极、烧杯、磁力搅拌加热装置、连接组成;计算机与电化学工作站连接,电化学工作站的阳电极和阴电极的输出端分别与阳电极和阴电极连接,阳电极和阴电极插入至烧杯中,烧杯置于磁力搅拌加热装置中,在烧杯内有磁力转子。
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