绝缘金属膜的镀膜方法

摘要

本发明涉及绝缘金属膜的镀膜方法。将需要镀膜的基材和金属镀膜材料放置到真空镀膜设备内，在真空镀膜设备内通入惰性气体，金属镀膜材料在惰性气体或电阻丝加热后熔融蒸发的作用下产生出金属原子或金属离子，所述的金属原子或金属离子沉积到基材表面形成绝缘且有金属光泽的金属膜，所述金属膜的厚度为纳米数量级。本发明的镀膜方法镀膜的基材表面的电阻率能够达到≥109Ω.cm，符合绝缘要求，经网络分析仪测试，基材表面对无线信号没有屏蔽影响，并且比传统镀膜工艺成本更低，膜层更轻薄，也更环保。

主权项

绝缘金属膜的镀膜方法，其特征包括：将需要镀膜的基材和金属镀膜材料放置到真空镀膜设备内，在真空镀膜设备内通入惰性气体，金属镀膜材料在惰性气体或电阻丝加热后熔融蒸发的作用下产生出金属原子或金属离子，所述的金属原子或金属离子沉积到基材表面形成绝缘且有金属光泽的金属膜，所述金属膜的厚度为纳米数量级。