光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置

摘要

本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。

主权项

一种光致抗蚀剂组合物的制造方法，其特征在于具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有由孔径为0.04μm以下的尼龙膜组成的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分A、由曝光产生酸的酸产生剂成分B和有机溶剂C；并且在使光致抗蚀剂组合物通过第1过滤器的工序之前或/和之后，具有使所述光致抗蚀剂组合物通过第2过滤器的工序，所述第2过滤器具有聚乙烯或聚丙烯制的第2膜，所述树脂成分A具有衍生自具有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元a1、衍生自具有内酯环的(甲基)丙烯酸酯的结构单元a2以及衍生自具有羟基和/或氰基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元a3。