用于补偿辐射诱导的热变形的系统和方法

摘要

用于补偿辐射诱导的热变形的系统和方法一种用于补偿作用在光刻装置上的热效应的系统和方法。所述系统包括构图部件、投影系统、基底位置控制器和基于基底位置的膨胀补偿器。所述构图部件可调制辐射光束。所述投影系统将调制的辐射光束投影到基底靶部上。所述基底位置控制器使基底相对投影系统顺序通过多个曝光位置而移动。所述基于基底位置的膨胀补偿器与基底位置控制器相互作用以改变曝光位置，从而至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热诱导的几何形状变化。

主权项

一种光刻装置，其包括提供调制的辐射光束的构图部件；将调制的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统；使基底相对投影系统顺序通过多个曝光位置而移动的基底位置控制器；测量至少部分基底的温度的基底温度测量系统；基于基底位置的膨胀补偿器，其与基底位置控制器相互作用以改变曝光位置，从而至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热诱导的几何形状变化，和数据处理系统，配置成将对应期望剂量的图案的第一表示转换成控制信号，所述数据处理系统包括基于控制信号的膨胀补偿器，所述基于控制信号的膨胀补偿器利用控制信号至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热膨胀，其中所述基于基底位置的膨胀控制器根据该基底温度测量系统的测量结果改变曝光位置。