等离子体处理装置及其气体供给方法

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置及其气体供给方法，在交替切换处理气体的供给时，这些处理气体不会混合，比过去更能抑制过渡现象。在晶片的等离子体处理中交替切换至少两种以上的处理气体（例如C4F6气体与C4F8气体）并供给处理室内时，对于供给所切换的处理气体的各个气体供给路，开启设置于其气体供给路中的质量流量控制器（MFC）的下游侧的开闭阀，在质量流量控制器反复设定规定流量和零流量，由此交替开闭各个处理气体的供给。

主权项

一种等离子体处理装置的气体供给方法，所述等离子体处理装置通过向能够减压的处理室内供给规定的气体并生成等离子体，来对所述处理室内的基板实施规定的等离子体处理，该等离子体处理装置的气体供给方法的特征在于：所述等离子体处理装置包括：气体供给系统，在多个处理气体供给源分别连接气体供给路，经由这些气体供给路向所述处理室供给所希望的处理气体；流量控制器，分别设置于各个所述气体供给路，根据所设定的流量来调整流量调整阀的开度，由此来控制流经所述气体供给路的气体的流量；和分别设置于各个所述流量控制器的下游侧的开闭阀，在所述基板的等离子体处理中交替切换至少两种以上的处理气体并供给至所述处理室内时，对于切换的所述处理气体的各个气体供给路，在开启所述流量控制器的下游侧的所述开闭阀的状态下，通过在所述流量控制器反复设定规定流量和零流量，来交替开闭各个所述处理气体的供给。