发明名称 |
送液装置及送液方法 |
摘要 |
提供可供给具有所需起泡率的处理液的送液装置及送液方法。送液装置具备:第一流路,流动有含气体的液体;第二流路,与第一流路连通,开口面积小于第一流路的开口面积,若设定成在第一流路流动的液体的第一压力为P1,其第一流速为V1,在第二流路流动的液体的第二压力为P2,其第二流速为V2,液体的密度为ρ,重力加速度为g,急缩损失系数为fsc,液体的流量为Q,第一流路的开口面积为S1,第二流路的开口面积为S2,则第一压力P1与第二压力P2的差压,流量Q,第一流路的开口面积S1及第二流路的开口面积S2满足关系式:P1-P2=((1+fsc)×V22/2g-V12/2g)×ρg、Q=V1×S1=V2×S2,在第二流路中流动的液体的雷诺数是会在第二流路中产生紊流的值。 |
申请公布号 |
CN102810495A |
申请公布日期 |
2012.12.05 |
申请号 |
CN201210140539.8 |
申请日期 |
2012.05.08 |
申请人 |
芝浦机械电子株式会社 |
发明人 |
广濑治道;牧野勉 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B23Q11/10(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
戚宏梅;杨谦 |
主权项 |
一种送液装置,其特征在于,具备:第一流路,流动有含有气体的液体;和第二流路,与上述第一流路连通,具有比上述第一流路的开口面积小的开口面积,若将在上述第一流路中流动的上述液体的第一压力设为P1,将在上述第一流路中流动的上述液体的第一流速设为V1,将在上述第二流路中流动的上述液体的第二压力设为P2,将在上述第二流路中流动的上述液体的第二流速设为V2,将上述液体的密度设为ρ,将重力加速度设为g,将急缩损失系数设为fsc,将流入上述第一流路的上述液体的流量设为Q,将上述第一流路的开口面积设为S1,将上述第二流路的开口面积设为S2,则上述第一压力P1与上述第二压力P2的差压、流入上述第一流路的上述液体的流量Q、上述第一流路的开口面积S1以及上述第二流路的开口面积S2满足如下关系式:P1-P2=((1+fsc)×V22/2g-V12/2g)×ρgQ=V1×S1=V2×S2,在上述第二流路中流动的上述液体的雷诺数是会在上述第二流路中产生紊流的值。 |
地址 |
日本神奈川县 |