发明名称 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件
摘要 本实用新型涉及一种防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件,防止下垂的掩模框架包括边框和支撑条,所述边框和支撑条一体成型;所述相应的掩模组件包括上述防止下垂的掩模框架和掩模板,所述掩模框架与所述掩模板焊接。本实用新型提供的掩模框架及防止下垂的掩模组件,有效防止了在蒸镀过程中由掩模组件上的掩模板的重量引起的掩模板的图案变形,有效改善蒸镀精度,生产成本低,效率高,具有广阔的市场前景。
申请公布号 CN202583692U 申请公布日期 2012.12.05
申请号 CN201220016279.9 申请日期 2012.01.16
申请人 昆山允升吉光电科技有限公司 发明人 魏志凌;高小平;郑庆靓;吴小燕
分类号 G03F1/64(2012.01)I;G03F1/62(2012.01)I 主分类号 G03F1/64(2012.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种防止下垂的掩模框架,其特征在于,包括边框和支撑条,所述边框和支撑条一体成型。
地址 215300 江苏省苏州市昆山市巴城镇红杨路888号