发明名称 透明导电性叠层体及使用该叠层体的透明触摸面板
摘要 在有机高分子膜的至少一个面上依次叠层光学干涉层,透明导电层,光学干涉层由高折射率层和低折射率层构成、且低折射率层与透明导电层连接,光学干涉层由交联聚合物构成的透明导电性叠层体中,前述光学干涉层含有由金属氧化物及/或金属氟化物构成的一次粒径在100nm以下的超微粒子A、以及/或者,在高折射率层和低折射率层的至少其中之一内含有平均一次粒径在光学干涉层的膜厚1.1倍以上、并且在1.2μm以下的微粒子B,其含量在交联聚合物的0.5重量%以下。该透明导电性叠层体用于透明触摸面板的透明电极基板。
申请公布号 CN101544075B 申请公布日期 2012.12.05
申请号 CN200910137030.6 申请日期 2002.09.03
申请人 帝人株式会社 发明人 伊藤晴彦;御子柴均;田村优次
分类号 B32B7/02(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I 主分类号 B32B7/02(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 杨松龄
主权项 一种透明导电性叠层体,在有机高分子膜上叠层有透明导电层,其特征为,在有机高分子膜的至少一个面上依次叠层光学干涉层、透明导电性层,光学干涉层由高折射率层及低折射率层构成,且该低折射率层与透明导电层连接,前述光学干涉层由交联聚合物构成,在前述高折射率层与前述低折射率层的至少一个内含有平均一次粒子直径在该光学干涉层的膜厚的1.1倍以上、且平均一次粒子直径在1.2μm以下的微粒子B,前述微粒子B的含量在形成含有该微粒子B的高折射率层及/或低折射率层的交联聚合物成分重量的0.5%以下。
地址 日本大阪府大阪市
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