用有机溶剂进行硅片清洗的方法

摘要

本发明公开了一种用有机溶剂进行硅片清洗的方法，涉及硅片清洗技术，依次进行以下步骤：a硅片从砂浆液中取出后，立即放入50－100摄氏度的热水中超声清洗，清洗10－30分钟；b之后，硅片放入有机清洗液YB中，在温度为30－75摄氏度时进行超声清洗，清洗30分钟以上；其中：所述有机清洗液YB为有机溶物乙醇与丙酮为溶质的水溶液；所述超声波的频率28－40kHz，功率为2500－3000W。本发明的有益效果是：此方法可以轻松的把硅片表面的脏污清洗干净，并且保留了硅片原有的机械损伤层。经检测，使硅片在后段酸制绒过程中反射率多降低2%左右。不仅清洗效率提高，而且不会引入杂质离子，减少了清洗成本与污染。

主权项

用有机溶剂进行硅片清洗的方法，其特征在于依次进行以下步骤：a硅片从砂浆液中取出后，立即放入50－100摄氏度的热纯水中超声清洗，清洗10－30分钟；b之后，硅片放入有机清洗液YB中，在温度为30－75摄氏度时进行超声清洗，清洗30分钟以上；其中：所述有机清洗液YB为有机溶物乙醇与丙酮为溶质的水溶液；在溶液混合时，乙醇的浓度为95%以上，乙醇在溶液体积中所占比例为44%－75%，丙酮的浓度为99%以上，丙酮在溶液体积中所占比例为10%以上，其余为纯水；所述超声波的频率28－40kHz，功率为1000－3000W。