发明名称 |
ZnO基发光二极管及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种ZnO基发光二极管及其制备方法。一种ZnO基发光二极管,包括在衬底(1)上依次沉积的ZnO同质缓冲层(2)、n型ZnO接触层(3)、n型Zn1-xCdxO层(4)、由Zn1-yCdyO层和ZnO层交替形成的多层Zn1-yCdyO/ZnO多量子阱结构层、Al和N共掺杂的P型Zn1-zCdzO层(6)、Al和N共掺杂的P型ZnO层(7)、ZnO电流扩展层(8);负电极(9)置于n型Zn1-xCdxO层上,正电极(10)置于ZnO电流扩展层(8)上。本发明通过在ZnO材料掺杂Al和N元素,可以有效改善ZnO薄膜的p型特性,制备发光效率高的ZnO发光二极管。 |
申请公布号 |
CN101777612B |
申请公布日期 |
2012.12.05 |
申请号 |
CN200910214542.8 |
申请日期 |
2009.12.31 |
申请人 |
华南师范大学 |
发明人 |
孙慧卿;郭志友;王雨田;邓贝;陈鹏;孔利平 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/28(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
广州粤高专利商标代理有限公司 44102 |
代理人 |
何淑珍;廖继海 |
主权项 |
ZnO基发光二极管,其特征在于包括在衬底(1)上依次沉积的ZnO同质缓冲层(2)、n型ZnO接触层(3)、n型Zn1‑xCdxO层(4)、由Zn1‑yCdyO层和ZnO层交替形成的多层Zn1‑yCdyO/ZnO多量子阱结构层、Al和N共掺杂的P型Zn1‑zCdzO层(6)、Al和N共掺杂的P型ZnO层(7)、ZnO电流扩展层(8);负电极(9)置于n型Zn1‑xCdxO层(4)上,正电极(10)置于ZnO电流扩展层(8)上,n型Zn1‑xCdxO层(4)沉积在n型ZnO接触层(3),ZnO电流扩展层(8)沉积在P型ZnO接触层(7)上;其中,0<x≤0.5,0<y≤0.5,0<z≤0.5。 |
地址 |
510631 广东省广州市天河区石牌中山大道西55号 |