发明名称 |
高分子电解质层积膜 |
摘要 |
本实用新型的课题在于提供一种高分子电解质层积膜,该高分子电解质膜即使进行长期保存也不会增加褶皱等缺点,并且可以容易地、无褶皱地将高分子电解质膜剥离使用。本实用新型的高分子电解质层积膜是具有树脂支撑膜和高分子电解质膜的高分子电解质层积膜,其中,在厚度为5~500μm的树脂支撑膜上层积有厚度为1~500μm的高分子电解质膜,所述树脂支撑膜至少在与所述高分子电解质膜层积的层积面侧实施了电晕放电处理或等离子体放电处理,所述高分子电解质膜的厚度方向整体和所述树脂支撑膜的厚度方向上的层积面侧的一部分在相同的平面位置按照纸页形切有切口,或者在相同的平面位置上沿纵或横的任一方向切有切口。 |
申请公布号 |
CN202585634U |
申请公布日期 |
2012.12.05 |
申请号 |
CN201120456678.2 |
申请日期 |
2011.11.17 |
申请人 |
旭化成电子材料株式会社 |
发明人 |
本多政敏;日南田哲夫 |
分类号 |
H01M8/02(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01M8/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
丁香兰;庞东成 |
主权项 |
一种高分子电解质层积膜,其为具有树脂支撑膜和高分子电解质膜的高分子电解质层积膜,其中,在厚度为5μm~500μm的树脂支撑膜上层积有厚度为1μm~500μm的高分子电解质膜,所述树脂支撑膜至少在与所述高分子电解质膜层积的层积面侧实施了电晕放电处理或等离子体放电处理,所述高分子电解质膜的厚度方向整体和所述树脂支撑膜的厚度方向上的层积面侧的一部分在相同的平面位置按照纸页形切有切口,或者在相同的平面位置上沿纵或横的任一方向切有切口,所述纸页形是切割高分子电解质层积膜的平面方向的四周,从而能够一张张地处理高分子电解质膜的形状。 |
地址 |
日本东京都 |