发明名称 A GAS SUPPLY UNIT OF A CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS
摘要 <p>본 발명은 화학기상증착장치의 가스 공급유닛에 관한 것으로, 냉각 매채의 유로를 형성하는 냉각 챔버, 상기 냉각 챔버의 상측에 형성되는 제1 가스 챔버, 상기 제1 가스 챔버의 상측에 형성되는 제2 가스 챔버 그리고, 상기 냉각 챔버, 상기 제1 가스 챔버 및 상기 제2 가스 챔버를 관통하도록 형성되어, 하단이 상기 냉각 챔버의 저면에 고정 설치되는 처짐 방지부를 포함하는 화학기상증착장치의 가스공급유닛에 의해 달성될 수 있다. 본 발명에 의할 경우, 종래에 비해 단순한 제조 방식에 의해 가스 공급유닛을 제조하는 것이 가능한 바, 제작 비용 및 제작 시간을 줄일 수 있는 장점이 있고, 제조 공정에서 일부 위치에 불량이 발생하더라도, 이를 부분 교체하거나 분리하여 수리하는 것이 가능한 바, 생산 수율을 개선하는 것이 가능하다.</p>
申请公布号 KR101207235(B1) 申请公布日期 2012.12.04
申请号 KR20100036579 申请日期 2010.04.20
申请人 发明人
分类号 C23C16/455;H01L21/205 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
主权项
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